一. FAB内常见工作岗位类术语
CE:负责对接客户的工程师;
TD:技术研发部门;
PE:工艺工程师,简称工艺 ;
EE:设备工程师,简称设备;
PIE:制程整合工程师;
PP:生产计划;
IE:工业工程师/厂务工程师;
MFG:制造部;
YE:缺陷改善工程师;
TO/OP:生产技术员/线上作业员。
这些部门在日常生产,维护过程中也经常会遇到一下基本工作术语:
CIP:是指持续改进计划(Continuous Improvement Plan);
Parts Management:这是指零件或部件的管理;
SOP:这是指制定标准操作程序 (Standard Operating Procedure) ;
FDC Monitoring:这是指对失败趋势图的监控(Failure Trend Chart);
Replacement of parts in advance:提前更换零件是预防性维护的一部分。
hightline Module:是一个系统或工具,用于高亮显示或标记缺陷,以便更容易地识别和解决问题;
Defect Map分析:是一种可视化工具,用于显示缺陷的分布情况,可以帮助YE了解哪些区域或产品线存在更多的缺陷;
Defect trend chart分析:通过分析缺陷趋势图,YE可以了解缺陷随时间的变化情况,从而确定是否需要采取措施来解决这些问题。
二.FAB内常见工作职位划分
半导体行业受台湾影响比较大,整个职位体系也与台厂相近。而台厂在高端电子代工占据全球半壁江山,公司都很大,公司员工也很多。整个职位等级比较规整,基本上实现了全行业标准化。
大多数台厂典型职位等级是:线长、组长、课长、部长、专理、副理、经理、处长、协理、副总、总经理、副总裁、总裁。
大陆半导体厂基本上也是使用这一套:课长(科长、课经理、副经理)、经理(部经理)、处长、总裁,其中省去了一些内地不习惯的称呼,像专理和协理这种。
三.FAB内常见设备类术语
Equip:机台;
Equip Group: 机台组,代表的是一种加工的能力(Capability);
job: 机台内部的加工过程;
Recipe: 配方/菜单,用以定义机台某一组加工参数和job process的集合;
subEquip: 附属设备;
Chamber: 腔体;
Loadport: 上料口;
打标机: 用激光技术在Wafer上面刻上ID;
涂胶机: PR Coat,通过旋转在Wafer上匀胶,分正负光刻胶两种,正胶见光死,负胶见光活;
光刻胶:高分子有机物,叫光致抗蚀剂;
曝光机: 给光刻胶曝光,将Mask的图形转移到光刻胶上;
显影机:给光刻胶显影,让图形显示出来;
DUV/EUV:光刻机,是让图形缩小的设备;
parts:零部件;
ring:环,零部件的一种;
target:靶材。
四.FAB内常见材料类术语
Substrate: 衬底,是由半导体单晶材料制造而成的晶圆片,是FAB厂从供应商采购的原材料;
背面刻号: 衬底来料背面通常会有供应商刻的追溯ID;
Spec: 参数,来料关注的一些技术参数,参数通常会设置规格,超规格一般的处理是Hold lot/chamber;
PN: 料号,不同供应商,不同材料参数的衬底会有不同的料号;
EPI: Epitaxy,外延片。经过MOCVD工艺之后,可以在衬底上长一层几微米的单晶,可以与衬底为同一材料,也可以是不同材料(同质外延或者是异质外延)。由于新生单晶层按衬底晶相延伸生长,从而被称之为外延层。
Wafer: 晶圆,是一个统称,包含外延,加工过的衬底和裸片;
DIE: 晶圆上面的一个芯片,也叫管芯;
Lot: 若干个晶圆组成的一个批次叫Lot,通常会用一个ID进行标识;
NPW片: 非产品片的总称,包括:结构片、Monitor片、QC片、Season暖机片、Dummy片;
QC片: 定期检测机台参数是否OK的片子;
offline: 与Lot加工处理不相关的定义为offline;
online: 与LOT加工直接相关的或者是监控LOT的参数属于online;
SPC: 统计过程控制,用以监控生产过程的稳定性,是一套IT系统;
OOC/OOS:针对规格或控制图的两对控制线,OOC和OOS主要是Range的不同;
Batch:若干个lot和NPW组成的集合;
Hold: 把片子锁住不让往后流片,执行此动作的系统是MES;
Future hold: 提前设置好片子要Hold在未来的哪个工序;
Release: 解锁,片子可以继续往后流;
MES: 生产执行系统,用于管理生产过程的IT系统;
issue: 产线出现的问题;
OP meeting:跨部门的生产会议,一般是一级领导参会;
Particle: 颗粒,就是金属颗粒,灰尘这些附着物,会影响器件性能。
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