一、设备开发背景：半导体RTP工程中，由Wafer Fume产生的污染

• 进行高温热处理工程中，为了使Lamp热效率高效传达给wafer，Chamber Parts 基本采用Quartz Parts；

• 封闭环境中LAMP光照急速加热Wafer，Liner Plate及Upper Plate上Wafer会发生Fume，从而引起 Liner Plate上的蒸镀污染；

  
  

Quartz plate 被污染引起LAMP的透过率变动，Wafer表面阻抗(Rs)将会分布不均衡，从而产生wafer报废风险；

设备应用方向：判断Quartz Parts透过率是否达标，能否符合工艺标准

1、预防过大污染引起工程不良，Quartz Parts需定期更换清洗；

• 透过率不足 50%效率，生产良率就会下降

  
  

2、清洗后的Quartz parts能否再使用，一般客观的数据并不存在；

• 只是靠主观经验上的判断(如：目视观察&清洗次数等)和上机之后的Dummy测试结果 

  
  

3、Quartz的实际可透光状态，与使用频率并无强关联特性；

• 需图表式和数据化的证据判断

• 可有效避提前报废带来的损失费用增加

• 可预防Quartz Parts因过度损伤导致RS NG，带来的wafer报废风险

  
  

  

二、设备构成及特点

• 上下部位使用Laser发出和接收紫外线光源（一种电磁辐射，具有比可见光更短的波长），进行透过率Data收集；

• 通过程序完成透过率测试以及做成透过率Map，达到可视化表达；

• 可测量Quartz Parts尺寸（mm）： ≤400(L) x 400(W) x 400(H)

三．透过率数据分析案例